LightSmyth提供了大量的纳米加工单晶硅衬底,为工业和学术机构提供了一个低成本的纳米光子学研究入口。基底可用于光学、光子学、生物学、化学、物理学(如中子散射)、聚合物研究、纳米印迹、微流体学等领域。如果需要,基板可以涂上金属或介质涂层。大多数地表特征具有略微梯形的横截面轮廓,具有直线平行的台地和沟渠。晶格状结构也可用。提供了许多特征尺寸和沟槽深度。基板的扫描电镜图像可以在装运前拍摄,以验证准确的轮廓。
Nanopatterned Silicon Stamps
II-VI offers a large variety of nanomachined single crystal silicon substrates providing a low-cost entry into nanophotonics research for industry and academic institutions. The substrates may be used in a variety of applications in optics, photonics, biology, chemistry, physics (e.g. neutron scattering), polymer research, nanoimprinting, microfluidics and others. If desired, the substrates can be coated with metallic or dielectric coating. Most of the surface features have slightly trapezoidal cross-section profiles with straight parallel mesas and trenches. Lattice-like structures are available as well. A number of feature sizes and trench depth is available. SEM images of the substrates may be taken prior to shipment to verify the exact profile.
Dimensions shown in the table represent target value. Period has accuracy better than 0.5% while groove depth and the width of line and space may differ from the target values by 15%. SEM are given for illustration purposes. If more precise dimensional information is required, we may provide an SEM of the specific piece of nanostamp you order as an optional service
(LightSmyth Nanopatterned Silicon Stamps 纳米图案硅片)
描述 | 数据 |
基材宽度高度误差 | 标准公差±0.2 mm |
净孔径(CA) | 距基板边缘0.5 mm(图案可延伸至基板边缘) |
基底厚度 | 0.675 ± 0.050 mm |
CA的表面质量 | P/N以“p”结尾:划痕/挖:最大划痕宽度,最大最大直径。可提供高达20/10的规格 |
CA的表面质量 | P/N以“-S”结尾:由于表面质量而打折的等级。至少有80%的可用面积。可能出现80/100划痕/挖痕/颗粒和不规则基底形状 |
CA外表面质量 | 无要求 |
Material材料 | 单晶硅,反应离子刻蚀 |
2D Nanostamps
Part Number | 周期 Period(nm) | 晶体类型 Lattice Type | 槽深 Groove Depth(nm) | 特征宽度 Feature Width(nm) | Size(mm) |
S2D-18B2-0808-350-P | 600 | Rect Post | 350 | 275 | 8.0 x 8.3 |
S2D-18B3-0808-350-P | 700 | Rect Post | 350 | 350 | 8.0 x 8.3 |
S2D-18C2-0808-350-P | 600 | Hex Post | 350 | 240 | 8.0 x 8.3 |
S2D-18C3-0808-150-P | 700 | Hex Post | 150 | 290 | 8.0 x 8.3 |
S2D-18C3-0808-350-P | 700 | Hex Post | 350 | 290 | 8.0 x 8.3 |
S2D-18D3-0808-350-P | 700 | Hex Hole | 350 | 200 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24B2-0808-150-P | 600 | Rect Post | 150 | 195 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24B2-0808-350-P | 600 | Rect Post | 350 | 195 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24B3-0808-150-P | 700 | Rect Post | 150 | 260 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24B3-0808-350-P | 700 | Rect Post | 350 | 260 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24C2-0808-150-P | 600 | Hex Post | 150 | 165 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24C2-0808-350-P | 600 | Hex Post | 350 | 165 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24C3-0808-150-P | 700 | Hex Post | 150 | 220 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24D2-0808-150-P | 600 | Hex Hole | 150 | 180 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24D2-0808-350-P | 600 | Hex Hole | 350 | 180 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24D3-0808-150-P | 700 | Hex Hole | 150 | 290 | 8.0 x 8.3 |
S2D-24D3-0808-350-P | 700 | Hex Hole | 350 | 290 | 8.0 x 8.3 |
Linear Nanostamps (line+space)
型号 | 周期间隔(nm) | 槽深 (nm) | 占空比 | 线宽 (nm) | 尺寸 | SEM link1 | Top down |
SNS-C72-1212-50-P | 139 | 50 | 50% | 69.5 | 12.5×12.5×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C72-2525-50-P | 139 | 50 | 50% | 69.5 | 25×25×0.7 5 | X-sec | Top down |
SNS-C36-1212-110-P | 278 | 110 | 50% | 139 | 12.5×12.5×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C24-1212-110-P | 416.6 | 110 | 50% | 208 | 12.5×12.5×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C20-0808-150-D45-P | 500 | 150 | 44% | 220 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C20-0808-350-D45-P | 500 | 350 | 44% | 220 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C20-0808-150-D60-P | 500 | 150 | 60% | 300 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C20-0808-350-D60-P | 500 | 350 | 60% | 300 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C18-2009-110-D50-P | 555.5 | 110 | 50% | 278 | 20×9×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C18-2009-140-D50-P | 555.5 | 140 | 50% | 278 | 20×9×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C18-2009-110-D29-P | 555.5 | 110 | 29% | 158 | 20×9×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C18-2009-140-D29-P | 555.5 | 140 | 29% | 158 | 20×9×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C16.7-0808-150-D45-P | 600 | 150 | 43% | 260 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C16.7-0808-350-D45-P | 600 | 350 | 43% | 260 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C16.7-0808-150-D55-P | 600 | 150 | 55% | 330 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C16.7-0808-350-D55-P | 600 | 350 | 55% | 330 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C16.5-2912-190-P | 606 | 190 | 50% | 303 | 29×12×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C16.5-2912-190-S 4 | 606 | 190 | 50% | 303 | 29×12×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C16.5-2924-190-P | 606 | 190 | 50% | 303 | 29×24.2×0.7 5 | X-sec | Top down |
SNS-C14.8-2410-170-P | 675 | 170 | 32% | 218 | 24×10×0.7 | ||
SNS-C14.8-2430-170-P | 675 | 170 | 32% | 218 | 24×30.4×0.7 5 | ||
SNS-C14.3-0808-150-D45-P | 700 | 150 | 47% | 330 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C14.3-0808-350-D45-P | 700 | 350 | 47% | 330 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C14.3-0808-150-D55-P | 700 | 150 | 55% | 375 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C14.3-0808-150-D55-P | 700 | 150 | 55% | 375 | 8×8.3×0.7 | Top down | |
SNS-C12-1212-200-P | 833.3 | 200 | 50% | 416 | 12.5×12.5×0.7 | X-sec | Top down |
SNS-C12-2525-200-P | 833.3 | 200 | 50% | 416 | 25×25×0.7 5 | X-sec | Top down |
SNS-C11.7-1212-200-P | 855 | 200 | 50% | 428 | 12.5×12.5×0.7 | ||
SNS-C11.7-2525-200-P | 855 | 200 | 50% | 428 | 25×25×0.7 5 |
2D nanostamps (rectangular and hexagonal lattice)
型号 | 周期间隔(nm) | 晶体类型 | 槽深 (nm) | 线宽 (nm) | 尺寸 | 型号 |
S2D-24B3-0808-150-P | 700 | rect post | 150 | 260 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24B3-0808-350-P | 700 | rect post | 350 | 260 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-18B3-0808-150-P | 700 | rect post | 150 | 350 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-18B3-0808-350-P | 700 | rect post | 350 | 350 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24C2-0808-150-P | 600 | hex post | 150 | 165 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24C2-0808-350-P | 600 | hex post | 350 | 165 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-18C2-0808-150-P | 600 | hex post | 150 | 240 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-18C2-0808-350-P | 600 | hex post | 350 | 240 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24C3-0808-150-P | 700 | hex post | 150 | 220 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24C3-0808-350-P | 700 | hex post | 350 | 220 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-18C3-0808-150-P | 700 | hex post | 150 | 290 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-18C3-0808-350-P | 700 | hex post | 350 | 290 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24D2-0808-150-P | 600 | hex hole | 150 | 180 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24D2-0808-350-P | 600 | hex hole | 350 | 180 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-18D3-0808-150-P | 700 | hex hole | 150 | 200 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-18D3-0808-350-P | 700 | hex hole | 350 | 200 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24D3-0808-150-P | 700 | hex hole | 150 | 290 | 8×8.3×0.7 | Top down |
S2D-24D3-0808-350-P | 700 | hex hole | 350 | 290 | 8×8.3×0.7 | Top down |
New nanostamps are added to our stock frequently. Please contact our application scientists if you cannot find a nanostructure you need in our stock list.
如何清洁光栅
为了去除油脂和其他污染物,传输光栅可在室温Liquinox溶液中浸泡不超过5分钟,在三个蒸馏水中漂洗,并使用无油喷嘴用干净干燥的压缩氮气吹干,同时用镊子夹住格栅(不要使用罐上的灰尘,因为其排放物受到高度污染)。切勿让水在格栅表面干燥,应将其吹走。氮气应该来自油箱或无油压缩机
http://www.alconox.com/Resources/TechnicalBulletin.aspx?plid=3
为了在这个过程中固定光栅,可以使用Nalgene™聚丙烯剪刀式镊子。
http://www.thermoscientific.com/en/product/nalgene-polypropylene-scissor-type-forceps.html
名称 | 型号货号 | 价格 | |
---|---|---|---|
线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030130
库存/货期:请咨询客服 |
周期 855nm;槽深 200nm;占空比 50%;尺寸 25.0 x 25.0mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030131
库存/货期:请咨询客服 |
周期 700nm;槽深 150nm;占空比 47%;尺寸 8.0 x 8.3mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030132
库存/货期:请咨询客服 |
周期 700nm;槽深 150nm;占空比 55%;尺寸 8.0 x 8.3mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030133
库存/货期:请咨询客服 |
周期 700nm;槽深 350nm;占空比 47%;尺寸 8.0 x 8.3mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030134
库存/货期:请咨询客服 |
周期 700nm;槽深 350nm;占空比 55%;尺寸 8.0 x 8.3mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030135
库存/货期:请咨询客服 |
周期 675nm;槽深 170nm;占空比 32%;尺寸 24.0 x 10.0 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030136
库存/货期:请咨询客服 |
周期 675nm;槽深 170nm;占空比 32%;尺寸 24.0 x 30.4mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030137
库存/货期:请咨询客服 |
周期 606nm;槽深 190nm;占空比 50%;尺寸 29.15 x 12.15mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030139
库存/货期:请咨询客服 |
周期 606 nm;槽深 190 nm;占空比 50%;尺寸 50.0 x 50.0 mm;净孔径 49 x 49 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030140
库存/货期:请咨询客服 |
周期 600nm;槽深 150nm;占空比 43%;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030141
库存/货期:请咨询客服 |
周期 600 nm;槽深 150 nm;占空比 55%;尺寸 8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030142
库存/货期:请咨询客服 |
周期 600nm;槽深350nm;占空比43%;尺寸 8.0 x 8.3mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030143
库存/货期:请咨询客服 |
周期 600nm;槽深 350nm;占空比 55%;尺寸 8.0 x 8.3mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030144
库存/货期:请咨询客服 |
周期 555nm;槽深 110nm;占空比 29%;尺寸 20.0 x 9 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030145
库存/货期:请咨询客服 |
周期 555nm;槽深 110nm;占空比 50%;尺寸 20.0 x 9 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030146
库存/货期:请咨询客服 |
周期 555nm;槽深 140nm;占空比 29%;尺寸 20.0 x 9 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030107
库存/货期:请咨询客服 |
周期 555nm;槽深 140nm;占空比 50%;尺寸 20.0 x 9 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030147
库存/货期:请咨询客服 |
周期 500nm;槽深 150nm;占空比 44%;尺寸 8.0 x 8.3 mm |
联系客服或
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030148
库存/货期:请咨询客服 |
周期 500nm;槽深 150nm;占空比 60%;尺寸 8.0 x 8.3 mm |
联系客服或
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030149
库存/货期:请咨询客服 |
周期 500nm;槽深 350nm;占空比 44%;尺寸 8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030108
库存/货期:请咨询客服 |
周期 500nm;槽深 350nm;占空比 60%;尺寸 8.0 x 8.3mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030150
库存/货期:请咨询客服 |
周期 417nm;槽深 110nm;占空比 50%;尺寸 12.5 x 12.5mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030151
库存/货期:请咨询客服 |
周期 278nm;槽深 110nm;占空比 50%;尺寸 12.5 x 12.5mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030152
库存/货期:请咨询客服 |
周期 139nm;槽深 50nm;占空比 50%;尺寸 12.5 x 12.5 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030109
库存/货期:请咨询客服 |
周期 139nm;槽深 50nm;占空比 50%;尺寸 25.0 x 25.0 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸8.0 x 8.3x0.7mm) |
C80030101
库存/货期:请咨询客服 |
周期600nm;蚀刻深度150nm;特征宽度165nm;尺寸8.0 x 8.3x0.7mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030129
库存/货期:请咨询客服 |
矩形柱;周期600 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度275 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030128
库存/货期:请咨询客服 |
矩形柱;周期700 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度350 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030127
库存/货期:请咨询客服 |
矩形柱;周期600 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度275 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030126
库存/货期:请咨询客服 |
矩形柱;周期700 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度350 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030125
库存/货期:请咨询客服 |
六角形立柱;周期600 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度240 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030103
库存/货期:请咨询客服 |
六角形立柱;周期600 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度240 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030124
库存/货期:请咨询客服 |
六角形立柱;周期700 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度290 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030123
库存/货期:请咨询客服 |
六角形立柱;周期700 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度290 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030122
库存/货期:请咨询客服 |
六角孔;周期700 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度200 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030121
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六角孔;周期700 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度200 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030116
库存/货期:请咨询客服 |
矩形柱;周期600 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度195 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm。 |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030104
库存/货期:请咨询客服 |
矩形立柱;周期600 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度195 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm。 |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm) |
C80030115
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矩形柱;周期700 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度260 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030114
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矩形柱;周期700 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度260 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030102
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六角形立柱;周期600 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度165 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030113
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六角形立柱;周期700 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度220 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm。 |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030105
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六角孔;周期600 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度180 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030112
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六角孔;周期600 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度180 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030111
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六角孔;周期700 nm;蚀刻深度150 nm;特征宽度290 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm。 |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030106
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六角孔;周期700 nm;蚀刻深度350 nm;特征宽度290 nm;尺寸8.0 x 8.3 mm。 |
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线性硅纳米印章(纳米图案硅片) |
C80030110
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周期855 nm;槽深200 nm;占空比50%;尺寸12.5 x 12.5 mm |
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