close[X]
您的购物车
型号 数量 货期
查看购物车 结算

极紫外和软x射线辐射EUV显微镜 (Metrology计量学 无损亚纳米级次表面成像)  

极紫外和软x射线辐射EUV显微镜 (Metrology计量学 无损亚纳米级次表面成像)
三维无损成像技术在材料科学和医学等许多应用领域都非常重要。我们开发了一种成像技术,利用极紫外和软x射线辐射来获得纳米分辨率的横截面图像。例如,我们能够无损地研究硅片或生物样品中的近表面结构。在下边的图片中,你可以看到几个埋在硅下的金层。它们的位置可以用我们的计量仪测量,精度低于1nm。这些层位于表面下的110 nm和128 nm处。


联系客服
 华北西南东北 Moli
13061644116 同微信 可扫码  info@microphotons.com
 西北华中华东华南 Daisy
18602170419 同微信 可扫码  info@microphotons.com
产品型号 1
货号 操作 名称
E80100170  极紫外和软x射线辐射EUV显微镜 (Metrology计量学 无损亚纳米级次表面成像)   [PDF] 无损成像;反射成像;轴向分辨率(厚度):<30nm;轴向位置精度:<1nm;最大深度:<1µm;高材料对比度    价格 : ¥0 库存/货期:请咨询客服
总览

三维无损成像技术在材料科学和医学等许多应用领域都非常重要。我们开发了一种成像技术,利用极紫外和软x射线辐射来获得纳米分辨率的横截面图像。

例如,我们能够无损地研究硅片或生物样品中的近表面结构。

在下边的图片中,你可以看到几个埋在硅下的金层。它们的位置可以用我们的计量仪测量,精度低于1nm。这些层位于表面下的110 nm和128 nm处。


通用参数


关键信息

● 无损成像

● 反射成像

● 轴向分辨率(厚度)<30nm

● 轴向位置精度<1nm

● Max深度<1µm

● 高材料对比度

● 易于安装样品



Figure3.png










使用本网站,即表示您同意我们使用cookie.它可以帮助更好地提供会员服务以及短时间内记录您的浏览记录
已知晓 了解详情
提示