光学级铌酸锂晶体基底是一种具有优异电光、声光、压电及非线性光学性能的高品质功能晶体材料,广泛应用于光通信、集成光子学、声表面波器件及光电子技术等领域。产品提供同成分铌酸锂(CLN)和化学计量比铌酸锂(SLN)两种材料类型,具有良好的晶体质量、光学均匀性和表面加工性能。支持3英寸、4英寸、6英寸、8英寸圆形晶圆,以及方形、三角形和异形尺寸定制,可提供单面抛光、双面抛光及单面抛光另一面研磨等加工方式,满足光学实验、LNOI薄膜制备、电光调制及精密光电子器件的多样化需求。
产品特点
优异的光电性能
高品质晶体基底
多规格灵活定制
精密表面加工
应用领域
光通信与电光调制
LNOI薄膜与集成光子学
声光与射频声学器件
非线性光学与科研实验
详细参数
参数 | 指标 |
材料类型 | 同成分铌酸锂(CLN)、化学计量比铌酸锂(SLN) |
晶体结构 | 三方晶系 |
晶体取向 | X-cut、Y-cut、Z-cut、Y36°-cut,支持定制 |
晶圆直径 | 3英寸(76.2mm)、4英寸(100mm)、6英寸(150mm)、8英寸(200mm) |
产品形状 | 圆形、方形、三角形、异形定制 |
晶片厚度 | 350μm、500μm、1000μm,支持定制 |
厚度公差 | 根据尺寸及加工要求定制 |
主定位边(OF) | 22±2mm、32±2mm、47±2mm(依规格选择) |
副定位边(RF) | 14±3mm(适用规格) |
表面加工 | 单面抛光(SSP)、双面抛光(DSP)、单面抛光另一面研磨 |
表面质量 | S/D 20/10(参考规格) |
表面粗糙度(Ra) | ≤0.3nm(参考规格) |
总厚度变化(TTV) | ≤10μm(参考规格) |
翘曲度(WARP) | ≤3μm(3英寸参考规格) |
普通光折射率(No) | 2.2878±0.0001(λ=632.8nm) |
非普通光折射率(Ne) | 2.2028±0.0001(λ=632.8nm) |
居里温度 | 约1142℃(CLN) |
边缘处理 | 倒角处理,支持定制 |
晶体内部质量 | 无明显条纹、夹杂等缺陷 |
主要应用 | 光通信、电光调制、LNOI薄膜基底、声光器件、SAW器件、非线性光学、射频声学器件、光学实验 |
| 名称 | 型号货号 | 描述 | 价格 |
|---|
